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循環(huán)伏安溶出分析（CVS）和循環(huán)脈沖伏安溶出分析（CPVS）是電鍍行業(yè)中廣泛應用的方法。許多鍍層技術，特別是電路板（PCBs）制造業(yè)，這個方法是生產(chǎn)控制的重要組成部分。添加劑的定量是通過其對槽液主成份沉積的影響而進行間接測定。由于測量是基于生產(chǎn)過程發(fā)生的電極反應，所以可以直接測定添加劑的活性和效果。

各種類型添加劑的定量測定需要專門的校正技術：線性近似法（LAT）或修正線性近似法可測定光亮劑。稀釋滴定法（DT）可測定抑制劑。

這些分析使用結構簡單、性價比好的旋轉鉑盤電極。在每次測定前，電極需要進行電化學預處理，這已在方法中設置好、并完全自動重復直至測定值穩(wěn)定。

采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。

電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數(shù)來表示并打印出來。這意味著可以準確的調節(jié)添加劑濃度。保證了操作的連續(xù)性和無干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業(yè)所接受。其他方法，如經(jīng)典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質量的評估而不能測定添加劑濃度。

可調用預置的方法，只需要調整少量參數(shù)，就可以開始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業(yè)排名前列的企業(yè)的鍍液分析?？梢陨暇W(wǎng)下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡報（AN），其中有更深入的應用方法。